『特許法、意匠法等の一部改正法閣議決定 2020年4月1日施行』
2019年11月
各位
弁理士法人藤本パートナーズ
所 長 弁理士 藤本 昇
副所長 弁理士 中谷 寛昭
副所長 弁理士 野村 慎一
拝啓 時下益々御清栄のこととお慶び申し上げます。
さて、2019年11月1日、特許法、意匠法等の一部改正に関する法律が閣議決定され、来年4月1日より施行されることとなりましたのでお知らせいたします。改正法の概要は下記のとおりですが、意匠法が大幅改正となり企業のデザイン開発に大きく影響を及ぼしますので、予めご検討下さい。
敬具
１．特許法の一部改正
（１）中立な技術専門家が現地調査を行う制度（査証）の創設
特許権の侵害の可能性がある場合、中立な技術専門家が、被疑侵害者の工場等に立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度を創設する。
※この制度の導入によって製品を分解しても材料が判明しない場合、製品自 体を入手できない場合、製造方法やプログラムの内容等が不明な場合等、工場等の立ち入りが可能となり権利者の立証が容易となる。
（２）損害賠償額算定方法の見直し（実用新案・意匠・商標も準用）
①侵害者が得た利益のうち、特許権者の生産能力等を超えるとして賠償が否定されていた部分について、侵害者にライセンスしたとみなして、損害賠償を請求できることとする。
②ライセンス料相当額による損害賠償額の算定に当たり、特許権侵害があったことを前提として交渉した場合に決まるであろう額を考慮できる旨を明記する。
※上記規定の見直しによって、損害賠償請求額を増額できる可能性がある。
２．意匠法の一部改正
（１）保護対象の拡充（画像、建築物の内・外装のデザイン）
①物品に記録・表示されていない画像を、新たに意匠法の保護対象とする。従来は物品が要件であったが、物品と関係なく画像のみが保護対象となる。従って画像の保護範囲が拡大するので、事前の保護戦略が重要となる。
②建築物の外観や内装のデザイン（空間デザイン）が新たに意匠法の保護対象となる。従来は不動産である、一意匠一出願の要件を満たさないとして保護できなかったが、今回の改正により店舗展開企業や住宅、建築、家具、インテリア等の業界にとっては、新たなデザイン保護戦略が必要となる。
（２）関連意匠制度※の見直し
※自己の出願した意匠又は自己の登録意匠(本意匠)に類似する意匠の登録を認める制度
一貫したコンセプトに基づき開発されたデザインを保護可能とするため、
①関連意匠の出願可能期間を、本意匠の登録の公表日まで（8か月程度）から、本意匠の出願日から10年以内までに延長する。
②関連意匠にのみ類似する意匠の登録を認める。
※この制度によって、デザインのモデルチェンジやデザイン変遷に対応できるため、事前のデザイン保護戦略が重要となる。
（３）意匠権の存続期間の変更
「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更する。
（４）意匠登録出願手続の簡素化
①複数の意匠の一括出願を認める。
②物品の名称を柔軟に記載できることとするため、物品の区分を廃止する。
（５）間接侵害※規定の拡充
※侵害を誘発する蓋然性が極めて高い予備的・幇助的行為を侵害とみなす制度
「その物品等がその意匠の実施に用いられることを知っていること」等の
主観的要素を規定することにより、取り締まりを回避する目的で侵害品を
構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まれるようにする。
３．その他
公益団体等（自治体、大学等）が自身を表示する著名な商標権のライセンスを認める等の措置を講ずる。
４．今後の対策
今回の改正、特に意匠法の改正は大幅な改正となりますので、企業の製品開発やデザイン開発にとって極めて重要で、しかも従来意匠登録できなかった住宅や建築物の内外装デザインが保護可能となりますので、今からその出願戦略も含めたデザイン開発を企業は即実行しなければなりません。
今回の意匠法改正についてご不明点等がございましたら、改正業務に直接携わっております弊所弁理士 野村 慎一までご連絡下さい。
また、特許法の改正につきましては弁理士 藤本 昇または、弁理士 中谷 寛昭までご連絡下さい。
詳細は以下のアドレスからご確認下さい。
https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/document/tokkyohoutou_kaiei_r010517/02.pdf
【お問い合わせ先】
弁理士法人 藤本パートナーズ
TEL 06-6271-7908 FAX 06-6271-7910
副所長 弁理士 中谷 寛昭（E-mail: pat-nakatani@sun-group.co.jp）
副所長 弁理士 野村 慎一（E-mail: nomura@sun-group.co.jp）
以上
